|
|
|
一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法 |
來源: 更新時間:2013-06-12 12:14:29 瀏覽次數: |
|
專利名稱:一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法
專利持有人:
所屬行業:
內容摘要:發明人:徐志偉,陳磊,張瑤瑤,郭啟微,陳光偉,王春紅,錢曉明申請人:天津工業大學申請號:CN201210096806.6 一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法。其是將氧化石墨置于60Co的輻照源室內,然后在輻照劑量率為0.6×103Gy/h~6×103Gy/h,... |
|
|
|
發明人:徐志偉,陳磊,張瑤瑤,郭啟微,陳光偉,王春紅,錢曉明
申請人:天津工業大學
申請號:CN201210096806.6
一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法。其是將氧化石墨置于60Co的輻照源室內,然后在輻照劑量率為0.6×103Gy/h~6×103Gy/h,輻照劑量為1×105Gy~2×106Gy的條件下對其進行γ射線輻照,輻照時間為16~3000小時,使氧化石墨的表面剝離而形成石墨烯納米片。本發明方法是利用γ射線粒子能量高、穿透力強的特點,使空氣中的氧氣與氧化石墨的片層發生反應,從而大大提高了氧化石墨的層間距,顯著降低了石墨烯納米片的平均層數,并且所獲得的石墨烯納米片比表面增加,同時顯著提高了超聲處理后石墨烯納米片中單片層的比例,因此可獲得高品質功能化石墨烯材料。另外,本發明方法還具有操作過程簡單、成本低廉,綠色環保等優點,并可實現工業化批量生產。
http://www.5mzg11v.top/uploadfile/2013/0923/20130923085642266.pdf
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|